Collaborative AI · Process control software

De vos données industrielles
à la maîtrise des procédés.

Smart3 relie vos données, votre expertise et l’IA, de la R&D à la production.

Cartographies de wafers · Résultats d’analyse
Contrôler les procédés
SEM · Nanofils 3D
TEM · Guide photonique en coupe
Comprendre les structures
Substrat
Dépôt
Structuration
Gravure

Smart3 relie vos données, de la R&D à la production.

↗ Déploiement sur site↗ Vos données, votre infrastructure↗ Vos algorithmes, votre propriété intellectuelle↗ R&D → Production
Smart3 Software Platform

Une plateforme. Votre expertise. Toutes vos données.

Smart3 réunit les données qui interviennent dans la fabrication des matériaux innovants, regroupées en six grandes catégories.

ImagesNuages de pointsDesignsSpectresSéries temporellesDonnées tabulaires

Installation on-premise. Confidentialité pour tous nos clients.

Smart3 s’installe sur votre infrastructure : vous gardez la maîtrise de vos données et de votre savoir-faire, de la R&D à la production.

Smart3Collaborative AI Platform
01

Connecter

Données multi-sources

02

Analyser

Workflows · IA · Simulation

03

Décider

Mesures · Défauts · Procédés

Vos gains avec Smart3

Améliorer les rendements.
Accélérer l’innovation des équipements.

Deux enjeux industriels, une même plateforme pour transformer les données en valeur.

Fabs & fabless

Contrôler les procédés et améliorer les rendements

Coût global : un meilleur équilibre

Exploiter davantage de données tout en réduisant le coût global.

Moins de coûtsCoût relatifDonnées de métrologie exploitées →
Sans PollenAvec Pollen
  • Analyse des causes racines accélérée
  • Fenêtres de procédé mieux maîtrisées
  • Réduction des pertes et amélioration du yield

Équipementiers

Créer plus de valeur autour de vos équipements

Plus de valeur, moins de développement transverse

Créez votre propre IP sur Smart3 et conservez la propriété de vos développements.

Sans PollenTout développer
Socle logiciel
Données & connecteurs
Applications métier
Maintenance
Avec PollenVous différencier
Votre IPVotre savoir-faireApplications & algorithmesPropriété intellectuelle créée et conservée par vous.
Smart3 · Socle maintenu par Pollen
  • Mise sur le marché accélérée
  • Moins de développements transverses et de maintenance
  • Vos ressources concentrées sur votre valeur ajoutée
Découvrir les deux modes d’intégration OEM & SDK →

Comparaisons de principe : les gains dépendent des données, des procédés, du périmètre d’intégration et des usages.

Smart3 · Capacités

Une plateforme logicielle.
Des capacités qui se combinent.

Smart3 combine vos données et vos capacités d’analyse dans un même environnement : métrologie, inspection, simulation et optimisation se complètent pour comprendre vos matériaux et vos procédés.

Interface Smart3 de métrologie SEM/TEM

Métrologie & caractérisation

Extraire des mesures et caractériser vos structures à partir de données multi-sources.

Interface Smart3 de classification des défauts

Inspection & analyse des défauts

Détecter, segmenter et classer les défauts selon votre contexte métier.

Interface de simulation et jumeau numérique

Simulation & optimisation de procédé

Relier données expérimentales, paramètres de fabrication et modèles physiques pour guider les décisions.

Smart3 · Personnalisation en langage naturel

Votre expertise devient un workflow.
Sans écrire de code.

Décrivez votre besoin en langage naturel. Avec le LLM et le contexte documentaire apporté par le RAG, créez vos lecteurs de données et combinez vos plugins dans Smart3.

Décrire → Créer → Assembler

Voir la démonstration AFM & EBSD ↓
Smart3 · Simulation & données expérimentales

Simulation et données réelles.
Une boucle pour progresser.

La simulation prend tout son sens lorsqu’elle est confrontée au réel. Smart3 connecte les outils de simulation aux données de caractérisation pour comparer les résultats, ajuster les modèles et orienter les prochaines expériences.

Exemple illustré : gravure plasma — de la simulation aux images de coupe SEM/TEM et aux mesures dans Smart3. Cette boucle s’applique aussi à d’autres procédés, substrats, composants et matériaux.

05Simulation & optimisation
Exemple illustratif de simulation de gravure plasma
04Résultats & analyse
Capture de la vidéo Smart3 : images de coupe de structures gravéesCapture de la vidéo Smart3 : analyse et mesures des structures
Smart3Données · Modèles · DécisionsWafers · Substrats · Matériaux
01DOE & recettes
02Procédé
03Caractérisation
04Résultats & analyse
05Simulation & optimisation
02Procédé
Équipement de procédé illustratif avec FOUP sur load ports intégrés
03Caractérisation
Instrument de caractérisation illustratif
  1. 01

    DOE · Plan d’expériences

    Définir les objectifs, facteurs et conditions à explorer.

  2. 02

    Procédé

    Réaliser les essais avec les recettes et paramètres sélectionnés.

  3. 03

    Caractérisation

    Mesurer les structures, matériaux et défauts : SEM, TEM, AFM et autres sources.

  4. 04

    Résultats & analyse

    Relier mesures et paramètres, comparer les performances et analyser les écarts.

  5. 05

    Simulation & décision

    Confronter le modèle au réel, explorer les scénarios et guider le prochain DOE.

Retour au DOE : chaque cycle enrichit les modèles et aide à choisir les prochaines expériences. Smart3 relie les données et les outils au fil de cette boucle.

Améliorer les rendements

Relier les mesures aux paramètres pour identifier les leviers de performance.

Accélérer le développement

Mieux cibler les essais et rapprocher simulation et données expérimentales.

Réduire les coûts de fabrication

Automatiser l’analyse et mieux exploiter les données pour guider les décisions.

Votre parcours avec Pollen

Du premier cas d’usage au déploiement.

LEARNPollen Academy1–3 jours

Former vos équipes et explorer vos données.

DISCOVER 2–3 mois

Évaluer la faisabilité d’un cas d’usage.

EXPLORE 6 mois

Développer et valider votre application.

DEPLOY 12 mois

Intégrer et déployer en production.

TRANSFORM En continu

Étendre les usages et améliorer en continu.

Travailler avec Pollen

Un modèle transparent, adapté à vos usages.

Commencez sur une application concrète, puis faites évoluer Smart3 avec vos besoins. Votre proposition distingue clairement les licences et les services, avec un périmètre et des coûts définis ensemble.

Des licences dimensionnées pour votre déploiement

Selon le nombre de licences et leur utilisation : équipes R&D, sites de production ou intégration dans vos équipements.

Le niveau de service dont vous avez besoin

Formation, accompagnement et développements spécifiques : nous adaptons notre intervention à vos ressources et à vos objectifs d’autonomie.

Une évolution progressive et maîtrisée

Du premier projet au déploiement à plus grande échelle, vous disposez d’une visibilité sur les coûts de chaque étape.

Nos partenaires locaux

Un accompagnement au plus près de vous.

Japon

Keisoku Engineering System Co., Ltd.

Votre interlocuteur local au Japon pour échanger sur Smart3 et vos applications.

Visiter le site KESCO ↗Site web actuellement en maintenance.
Corée du Sud

Woowon Technology Co., Ltd.

Votre distributeur local en Corée du Sud pour échanger sur Smart3 et vos applications.

Visiter le site Woowon ↗
Marchés

Une intelligence adaptée à votre environnement.

Semiconducteurs

Du développement des procédés au suivi de production : exploitez vos données de métrologie et d’inspection.

Packaging avancé

Analysez les structures, interconnexions et défauts. Reliez vos données de caractérisation aux paramètres de fabrication.

Displays & photonique

Caractérisez les microLED et les structures optiques. Rapprochez mesures et simulation.

Matériaux innovants

Construisez des workflows d’analyse pour comprendre les relations entre structure, propriétés et procédé.

Illustration de fab issue de la présentation Pollen
Smart3

Dans votre fab

Connecter les données, analyser et guider les décisions de procédé.

Smart3 Data · AI · Workflows · SDK
Illustration d’équipement issue de la présentation Pollen
Smart3

Dans votre équipement

Intégrer vos algorithmes et enrichir les capacités de vos outils.

Smart3 · OEM & SDK

Une plateforme. Deux modes d’intégration.

Gagnez des années de développement logiciel.

Fabs, fabless et équipementiers : développez vos applications métier sur Smart3 en vous appuyant sur une plateforme ouverte, personnalisable et unifiée.

Capitalisez sur dix années de développement du cœur technologique pour intégrer vos données, vos algorithmes et vos workflows, tout en conservant votre savoir-faire et votre différenciation.

Une même plateforme, de la R&D à la production.

Harmonisez vos outils et vos méthodes entre équipes, instruments et sites.

Concentrez vos ressources sur votre valeur ajoutée.

Consacrez vos efforts à la science des données, aux procédés et aux applications qui font votre différence.

Réduisez le coût de votre infrastructure logicielle.

Limitez les développements transverses et la maintenance d’un socle propriétaire grâce à une base logicielle commune, maintenue et enrichie par Pollen.

Déploiement sur site, dans votre environnement.

En fab ou intégré à un équipement, Smart3 s’installe sur votre infrastructure. La confidentialité de vos données reste au cœur de chaque déploiement.

Des économies qui vont au-delà du temps gagné : développement du socle, maintenance, tests et infrastructure logicielle sont mutualisés pour réduire votre coût total sur la durée.

Qui sommes-nous

La science des données.
La réalité de l’industrie.

Fondée à Grenoble en 2014 et basée à Moirans depuis 2015, Pollen est née des quinze années de recherche de son fondateur, Johann Foucher, au CNRS et au CEA, en physique des plasmas appliquée à la gravure des semi-conducteurs et en métrologie avancée.

Une conviction guide Smart3 : comprendre les procédés exige de relier les données et de rendre les analyses personnalisables. Notre plateforme logicielle ouverte associe données expérimentales, expertise métier et simulation dans une vision globale des procédés.

D’une vision scientifique à une expertise collective.

De 2015 à 2024, dix années de développement ont bâti le cœur de Smart3 et une équipe pluridisciplinaire : logiciel, IA, traitement du signal, semi-conducteurs, caractérisation des matériaux, physique et chimie.

Aujourd’hui, cette expertise collective se traduit en applications concrètes auprès de nos clients industriels et équipementiers aux États-Unis, en Europe et en Asie, de la R&D à la production.

L’équipe de direction derrière Smart3

Notre équipe de direction

Ali Hallal (PhD)

Ali Hallal (PhD)

Team Leader Application & Support

LinkedIn ↗
Smart3 · En action

Découvrez Smart3 en vidéo.

Actualités Pollen

À la une chez Pollen

Visuel Pollen JNPack 2026 avec Richard Fontanges

Des données du packaging aux décisions opérationnelles

Pollen aux 3es Journées Nationales du Packaging, les 13 et 14 octobre 2026 au CEA-Leti à Grenoble. Richard Fontanges y présentait comment Smart3 relie images, mesures, données de procédé et défauts pour guider les décisions des ingénieurs.

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GT CICERIF — Valeo — 7 septembre 2026 — FdEF

GT CICERIF : faire avancer une électronique durable

Retour sur la journée de travail du GT CICERIF chez Valeo, consacrée notamment au projet FALAISE — Failure AI for Sustainable Electronics. Une initiative collective de la Fédération de l’Électronique Française autour de l’innovation et de l’électronique durable.

Voir la publication FdEF ↗
L’équipe Pollen réunie en montagne lors de la journée du 8 juillet 2026

Une équipe, une ambition et un cap franchi ensemble

Une journée en montagne pour célébrer une nouvelle étape de Pollen et remercier l’équipe, les clients et les partenaires. Au programme : randonnée, déjeuner à Altitude 2000 et un moment partagé autour de ce qui rend l’aventure possible — la confiance, la passion et le collectif.

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Pollen & STMicroelectronics — PESM 2026 — Augmented Engineer — Julien Baderot

PESM 2026 : relier simulation plasma et procédés réels avec STMicroelectronics

Présentés par Julien Baderot à Grenoble, les travaux collaboratifs Pollen–STMicroelectronics sur les grilles FDSOI associent métrologie TEM automatisée par IA, jumeaux numériques et optimisation multiobjectif de la gravure plasma pour accélérer l’identification des fenêtres de procédé.

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Papers

La science derrière Smart3.

Six publications à découvrir et un regard extérieur sur Pollen. Métrologie, analyse des défauts, plateformes ouvertes et optimisation des procédés : des travaux ancrés dans les applications industrielles.

À la une · SemiWiki

Dix ans de développement, une plateforme IA déployée dans l’industrie

Lauro Rizzatti revient sur la construction de Smart3 et son rôle pour relier données, équipements et expertise dans les semi-conducteurs et les matériaux avancés.

Lauro Rizzatti ·

Lire sur SemiWiki ↗

Notre sélection

SPIE · 2026Publié

Infinitesima

Assemblage d’images AFM à grande échelle

Assembler des acquisitions AFM rapides pour reconstruire une cartographie étendue et l’analyser dans Smart3, en collaboration avec Infinitesima.

Consulter la publication ↗
Référence complète

Advancements and challenges in large-scale atomic force microscopy image stitching for semiconductor devices

Auteurs
Julien Baderot, Ali Hallal (Pollen); Matthew Tedaldi, Richard Thomas, Andrew D. L. Humphris (Infinitesima); Johann Foucher (Pollen)
Publication / conférence
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026, Metrology, Inspection, and Process Control XL (Proc. SPIE)
EMLC / SPIE · 2024Publié

Metrospection : métrologie et inspection réunies

Combiner mesures et détection de défauts, du motif au wafer, dans une plateforme ouverte et personnalisable par l’ingénieur.

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Référence complète

Metrospection: holistic AI-driven process control software platform dedicated to metrology and defectivity for patterning process at die and wafer levels

Auteurs
Julien Baderot, Ali Hallal, Martin Jacob, Sergio Martinez, Johann Foucher (Pollen)
Publication / conférence
39th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2024), Proc. SPIE 13273, 132731J
SPIE · 2026Publié

Plateforme ouverte et jumeau numérique

Relier nettoyage des données, modélisation et optimisation des procédés, avec la possibilité d’intégrer ses propres algorithmes.

Consulter la publication ↗
Référence complète

Open collaborative AI platform to support process optimization for semiconductor industry with digital twin

Auteurs
Julien Baderot, Marion Grould, Ali Hallal, Johann Foucher (Pollen)
Publication / conférence
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026, DTCO and Computational Patterning V (Proc. SPIE)
PESM · 2026Résumé et présentation de conférence

STMicroelectronics

Augmented Engineer : simulation plasma et données réelles

Une couche IA sans code pour aider l’ingénieur à confronter simulation et données de procédé et à explorer les compromis d’optimisation, avec STMicroelectronics.

Voir la référence ↗
Référence complète

Augmented Engineer: A No-Code AI Application Layer for Bridging the Gap Between Plasma Simulation and Real-World Processing

Auteurs
Julien Baderot, Marion Grould (Pollen); Caroline Lacomme, Linda Parmigiani (STMicroelectronics); Ali Hallal, Hervé Ozdoba, Johann Foucher (Pollen)
Publication / conférence
PESM 2026 (Plasma Etch and Strip in Microelectronics), June 2026, oral presentation
SPIE Photomask · 2024Publié

Meta

Métrologie évolutive pour les structures AR/VR

Mesurer des réseaux inclinés en TEM et des structures en CD-SEM, avec des workflows qui évoluent au rythme du développement des procédés de Meta.

Consulter la publication ↗
Référence complète

Scalable and adaptable structural metrology for AR/VR device images based on deep learning

Auteurs
Subhei Shaar, Maclean Harned, Bo Zhao, Kundan Chaudhary, Raja Muthinti (Meta); Ali Hallal, Martin Jacob, Julien Baderot, Sergio Martinez, Johann Foucher (Pollen)
Publication / conférence
SPIE Photomask Technology 2024, Proc. SPIE 13216, 132161H
JVST B · 2022Article de revue

Métrologie automatique SEM/TEM par deep learning

Les fondements de la métrologie IA de Pollen : annotation, détection, segmentation et mesures à partir d’exemples fournis par l’utilisateur.

Consulter la publication ↗
Référence complète

Application of deep-learning based techniques for automatic metrology on scanning and transmission electron microscopy images

Auteurs
J. Baderot, M. Grould, D. Misra, N. Clément, A. Hallal, S. Martinez, J. Foucher (Pollen)
Publication / conférence
Journal of Vacuum Science & Technology B 40, 054003 (2022)
Construisons ensemble

Quel procédé souhaitez-vous améliorer ?

Décrivez vos données, votre application et vos objectifs. Nous définirons ensemble une première étape concrète.

Pollen

122 rue Rocher de Lorzier
38430 Moirans, France

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Pollen Metrology SAS traite vos données pour répondre à votre demande. Accès : Johann Foucher ; emails stockés dans Microsoft 365. Conservation : trois mois maximum après réception. Droits : contact@pollen-metrology.com. Confidentialité et droits